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引起镀膜玻璃膜层不均匀原因多方面
点击次数:52 发布时间:2018-11-24
  引起镀膜玻璃膜层不均匀原因多方面
  二次污染造成的针孔洗净的玻璃在镀膜前需经过加热,抽真空和溅射等过程,而使玻璃再次污染,从而使玻璃镀膜后产生针孔。玻璃加热过程中再污染是加热室或溅射室不干净,而对玻璃再污染,这些污染源主要来源于扩散泵返油、加热室或溅射室内脏、靶玻璃材溅射产生靶灰,残余气体压强高等诸多方面。
  因为一般的固体物质,每单位表面积上的分子数大约为10个左右,在常Pa的压强下,每秒钟撞表面的分子数大体上相当于覆盖物质全面积的分子数。在残余气体压强为10的情况下,假如以每秒一层原子左右的形成速度进行镀膜时,则蒸发的原子和残余气体的分子几乎是以相同的几率碰撞基片。在溅射过程中在充入氩气时压强为10~10时所形成膜的速度和蒸发条件下基本相同。
  由于残余气体的存在,不但影响膜的纯度及质量,还会产生针孔。所以在生产中要选用高纯度的氩气为工作气体,严格控制真空室的漏气速率,以减小残余气体对原片及膜层的污染。将残余气体的压力控制在10Pa以下,要经常清理加热室、玻璃过渡室、溅射室的环境,减少扩散泵返油对玻璃的污染。
  同时可适当提高阴极的溅射功率,以增加粒子动能及扩散能力,这将有利于清除被镀膜玻璃表面的残留物质,减少镀膜玻璃的针孔。镀膜玻璃膜的膜层均匀度一般地讲,同一基片上膜层厚薄不同,就称之为膜层不均匀。引起镀膜玻璃膜层不均匀的原因是多方面的。
  磁控溅射靶的水平磁场强度(B)对膜层均匀度的影响磁控溅射的关键参数之一是与电场垂直的水平磁场强度B,因为水平磁场强度B要求在阴极靶的表面是一个均匀的数值。而实际生产过程中值是随着使用方法及时间的推移,产生一定的变化,而出现不均匀现象。我们从溅射过的阴极靶材的刻蚀区的变化情况就可以验证。